今天小编分享的科技经验：独家！安集科技VS上海新安纳CMP抛光液技术布局对比(附专利总量对比、合作申请对比、重点专利布局对比等)，欢迎阅读。
行业主要上市公司：安集科技 ( 688019 ) 、上海新阳 ( 300236 ) 、鼎龙股份 ( 300054 ) 、万华化学 ( 600309 ) 等
本文核心数据：安集科技和上海新安纳专利申请数量、专利市场价值、重点专利布局
全文统计口径说明：1 ) 搜索关键词：CMP 抛光液及与之相近似或相关关键词 ;2 ) 搜索范围：标题、摘要和权利说明 ;3 ) 筛选条件：简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT 进入指定国 ( 指定期 ) ，简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4 ) 统计截至日期：2023 年 4 月 17 日。5 ) 若有特殊统计口径会在图表下方备注。
1、中国 CMP 抛光液技术竞争格局：安集科技和上海新安纳为中国主要企业之二
从企业的专利数量分布情况来看，安集科技和上海新安纳属于专利数量较多的企业。其中，安集科技的相关技术数量占比达到了 35% 左右，上海新安纳的相关技术数量占比为 4% 左右。
2、安集科技 V.S. 上海新安纳技术布局对比
( 1 ) 专利申请量及 PCT 申请量对比：安集科技遥遥领先于上海新安纳
不过，在 CMP 抛光液专利申请量方面，安集科技 CMP 抛光液专利申请总量是上海新安纳 CMP 抛光液专利申请量的 6 倍左右，分别为 124 项和 20 项。
从趋势上看，2004-2023 年安集科技在 CMP 抛光液领網域各年专利申请量整体比上海新安纳多。上海新安纳各年专利申请数量均为个位数，安集科技专利申请数量最高达到 18 项。
( 2 ) 专利市场价值对比：微软专利市场价值更高
安集科技 CMP 抛光液专利总价值高于上海新安纳，安集科技 CMP 抛光液专利总价值为 787.18 万美元，是上海新安纳的 4 倍多。
在专利价值分布方面，两者大多数 CMP 抛光液专利价值主要集中在 3 万 -30 万美元。
( 3 ) 专利申请地網域对比：美国为两者主要布局区網域
目前，安集科技和上海新安纳的 CMP 抛光液专利申请区網域主要集中在中国大陆，两者在中国大陆申请的 CMP 抛光液专利数量分别为 111 项和 20 项。中国台湾是安集科技 CMP 抛光液专利申请的第二大地区，专利申请数量为 35 项。
统计口径说明：按每件申请显示一个公开文本的去重规则进行统计，并选择公开日最新的文本计算。
( 4 ) 专利类型对比：两者以发明专利为主
从专利类型分布情况来看，安集科技和上海新安纳 CMP 抛光液专利申请类型均为发明专利。
( 5 ) 专利技术构成对比：两者布局的第一大细分领網域一致，但微软聚焦领網域更为明显
目前，"C09G1 抛光组合物 ( 虫胶清漆入 C09F11/00; 洗涤剂入 C11D ) [ 2006.01 ] " 为安集科技和上海新安纳的第一大 CMP 抛光液技术细分分布领網域，两者在这一领網域的专利申请量分别为 121 项和 19 项。两者其它重点细分 CMP 抛光液技术布局情况如下：
从 CMP 抛光液专利聚焦的领網域看，目前微软的 CMP 抛光液专利聚焦领網域较明显，其主要聚焦于化学机械、抛光液等。
( 6 ) 专利创新战略总结
整体来看，安集科技 CMP 抛光液技术在质量提升、专业化、多样化和国际化具有相对竞争优势，上海新安纳 CMP 抛光液技术则在数量增长、市场推动和合作性上具有相对竞争优势。
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