日本先進光刻機保有量上升，ASML 計劃駐日維護團隊規模擴大四倍

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IT 之家 4 月 3 日消息，《日經亞洲》當地時間昨晚報道稱，在日本半導體制造足迹不斷擴張、先進光刻機保有量持續上升的趨勢下，ASML 計劃将其駐日維護團隊在未來幾年擴大到當前規模的 5 倍，到 2027 年來到 100 人。

根據 IT 之家的了解，日本境内至少有三個項目将引入 ASML 提供的 EUV 光刻設備，分别是 Rapidus 位于北海道千歲市的 IIM 晶圓廠（2nm 邏輯）、美光廣島的内存生產線（1-gamma DRAM）和台積電日本子公司 JASM 的二期晶圓廠（6/7nm 邏輯）。

而若考慮到 DUV 機台，日本的 ASML 設備持有規模将進一步提升。更大的當地支持組織能幫助 ASML 在日本客户提出需求的第一時間響應處置，從而減少停機等待時間，降低客户的損失。