3+億美元能造1.8nm！Intel收到全球第一台高NA EUV極紫外光刻機

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快科技 1 月 7 日消息，Intel 官方宣布，位于俄勒岡州的晶圓廠已經收到 ASML 發貨的全球第一台高 NA ( 數值孔徑 ) EUV 極紫外光刻機，型号為 "Twinscan EXE:5000"，它将幫助 Intel 繼續推進摩爾定律。

Intel 早在 2018 年就向 ASML 訂購了這種新一代光刻機，将用于計劃今年量產的 Intel 18A 制造工藝，也就是 1.8nm 級别。

Intel 還第一個下單了改進型的 Twinscan EXE:5200，将在 2025-2026 年用于更先進工藝。

根據此前報道，ASML 将在 2024 年生產最多 10 台新一代高 NA EUV 光刻機，其中 Intel 就定了多達 6 台。

到了 2027-2028 年，ASML 每年都能生產 20 台左右的高 NA EUV 光刻機。

新光刻機的價格估計至少 3 億美元，甚至可能達到或超過 4 億美元，也就是逼近人民币 30 億元，而現有低 NA EUV 光刻機需要 2 億美元左右。