3+亿美元能造1.8nm！Intel收到全球第一台高NA EUV极紫外光刻机

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快科技 1 月 7 日消息，Intel 官方宣布，位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到 ASML 发货的全球第一台高 NA ( 数值孔径 ) EUV 极紫外光刻机，型号为 "Twinscan EXE:5000"，它将帮助 Intel 继续推进摩尔定律。

Intel 早在 2018 年就向 ASML 订购了这种新一代光刻机，将用于计划今年量产的 Intel 18A 制造工艺，也就是 1.8nm 级别。

Intel 还第一个下单了改进型的 Twinscan EXE:5200，将在 2025-2026 年用于更先进工艺。

根据此前报道，ASML 将在 2024 年生产最多 10 台新一代高 NA EUV 光刻机，其中 Intel 就定了多达 6 台。

到了 2027-2028 年，ASML 每年都能生产 20 台左右的高 NA EUV 光刻机。

新光刻机的价格估计至少 3 亿美元，甚至可能达到或超过 4 亿美元，也就是逼近人民币 30 亿元，而现有低 NA EUV 光刻机需要 2 亿美元左右。