造價超21億元！阿斯麥向英特爾交付首台高NA EUV光刻系統

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快科技 12 月 22 日消息，據媒體報道，荷蘭半導體設備制造巨頭阿斯麥（ASML）确認，向英特爾交付首台高數值孔徑（NA）的極紫外（EUV）光刻系統。

數值孔徑是用來衡量光學系統能夠收集的光的角度範圍，通過增大數值孔徑，可以實現更小的分辨率和更高的分辨能力，從而滿足微細加工的要求。

據介紹，每台新機器的造價成本超過 3 億美元（約合 21.4 億元人民币），可以滿足一線芯片制造商的需求，未來十年内能夠制造更小、更好的芯片。 

阿斯麥發布了這台機器的一部分從荷蘭維爾德霍芬總部出發的照片，照片中機器的一部分被裝在一個保護盒裏，周圍還系着一條紅絲帶。

阿斯麥同時表示：" 我們很興奮，也很自豪能将我們的第一個高數值孔徑 EUV 系統交付給英特爾。"

這台機器組裝後将比一輛卡車還大，将用 250 個單獨的板條箱運送，其中包括 13 個大貨櫃，預計将從 2026 年或 2027 年開始用于商用芯片制造。

除了英特爾外，台積電、三星、SK 海力士和美光等也都訂購了這款機器。