荷蘭擴大對先進半導體制造設備的出口管制措施，阿斯麥回應

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9 月 6 日，荷蘭政府宣布擴大對先進半導體制造設備的出口管制措施，即從 9 月 7 日起，更多類型的半導體制造設備将受到國家授權要求的限制。對此，阿斯麥回應稱，根據更新的許可證要求，阿斯麥将需要向荷蘭政府而不是美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 浸沒式 DUV 光刻機的出口許可證。TWINSCAN NXT:2000i 及其後的浸沒式 DUV 系統已經有了荷蘭出口許可證要求。阿斯麥 EUV 系統的銷售也受許可證要求的限制。阿斯麥表示，由于這是一項技術性變更，預計不會對公司 2024 年的财務前景或長期方案產生任何影響。（界面）